冷卻水循環(huán)系統(tǒng)組成部分
監(jiān)控系統(tǒng)管路中介質(zhì)流量大小,在管路因堵塞等因素造成的管內(nèi)流量過低或者過高,可以及時(shí)向控制系統(tǒng)發(fā)出下線報(bào)警點(diǎn)(流量過低時(shí))或者上線報(bào)警點(diǎn)(流量過高時(shí))提供開關(guān)量信號(hào),我們稱之為流量報(bào)警開關(guān)。
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)原理
以水作為冷卻介質(zhì),并循環(huán)使用的一種冷卻水系統(tǒng)。主要由冷卻設(shè)備、水泵和管道組成。冷水流過需要降溫的生產(chǎn)設(shè)備(常稱換熱設(shè)備,如換熱器、冷凝器、反應(yīng)器)后,溫度上升,如果即行排放,冷水只用一次(稱直流冷卻水系統(tǒng)),使升溫冷水流過冷卻設(shè)備則水溫回降,可用泵送回生產(chǎn)設(shè)備再次使用,冷水的用量大大降低,??晒?jié)約95%以上。冷卻水占工業(yè)用水量的70%左右,因此,冷卻水循環(huán)系統(tǒng)起了節(jié)約大量工業(yè)用水的作用。
從冷卻塔來的較低溫度的冷卻水,經(jīng)冷卻泵加壓后送入冷水機(jī)組,帶走冷凝器的熱量后,溫度便升高了,然后被送到冷卻塔上進(jìn)行噴淋,由于冷卻塔風(fēng)扇的轉(zhuǎn)動(dòng),使冷卻水在噴淋下落過程中,不斷與室外空氣發(fā)生熱濕交換而冷卻,冷卻后的水落入冷卻塔積水盤中,然后再次被冷卻泵加壓后進(jìn)入下一個(gè)循環(huán)。這就是它的流程,原理也很簡(jiǎn)單,就是一個(gè)熱量交換的過程,這跟我們散熱器采暖一個(gè)道理。[1]
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)分類
冷卻設(shè)備有敞開式和封閉式之分,因而冷卻水循環(huán)系統(tǒng)也分為敞開式和封閉式兩類。敞開式系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和運(yùn)行較為復(fù)雜。
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)敞開式
冷卻設(shè)備有冷卻池和冷卻塔兩類,都主要依靠水的蒸發(fā)降低水溫。再者,冷卻塔常用風(fēng)機(jī)促進(jìn)蒸發(fā),冷卻水常被吹失。故敞開式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)必須補(bǔ)給新鮮水。由于蒸發(fā),循環(huán)水濃縮,濃縮過程將促進(jìn)鹽分結(jié)垢(見沉積物控制)。補(bǔ)充水有稀釋作用,其流量常根據(jù)循環(huán)水濃度限值確定。通常補(bǔ)充水量超過蒸發(fā)與風(fēng)吹的損失水量,因此必須排放一些循環(huán)水(稱排污水)以維持水量的平衡。冷卻水循環(huán)系統(tǒng)在敞開式系統(tǒng)中,因水流與大氣接觸,灰塵、微生物等進(jìn)入循環(huán)水;此外,二氧化碳的逸散和換熱設(shè)備中物料的泄漏,也改變循環(huán)水的水質(zhì)。為此,循環(huán)冷卻水常需處理,包括沉積物控制、腐蝕控制和微生物控制。處理方法的確定常與補(bǔ)給水的水量和水質(zhì)相關(guān),與生產(chǎn)設(shè)備的性能也有關(guān)。當(dāng)采用多種藥劑時(shí),要避免藥劑間可能存在的化學(xué)反應(yīng)。
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)封閉式
封閉式冷卻水循環(huán)系統(tǒng)采用封閉式冷卻設(shè)備,循環(huán)水在管中流動(dòng),管外通常用風(fēng)散熱。除換熱設(shè)備的物料泄漏外,沒有其他因素改變循環(huán)水的水質(zhì)。為了防止在換熱設(shè)備中造成鹽垢,有時(shí)冷卻水需要軟化(見水的軟化)。為了防止換熱設(shè)備被腐蝕,常加緩蝕劑;采用高濃度、劇毒性緩蝕劑時(shí)要注意安全,檢修時(shí)排放的冷卻水應(yīng)妥善處置。[2]
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn)
1、清除生物黏泥,保障冷卻塔正常運(yùn)行;
2、殺滅各種細(xì)菌,保證人的生命健康;
3、對(duì)人和環(huán)境沒有任何危害,對(duì)設(shè)備不產(chǎn)生腐蝕;
4、系統(tǒng)智能化運(yùn)行,性能穩(wěn)定,無需人員職守;
5、不需要停產(chǎn)刷洗,提高生產(chǎn)效率;
6、降低循環(huán)系統(tǒng)的能耗,降低企業(yè)運(yùn)行成本;
7、溶液可降解,直接排放,不增加后續(xù)污水處理的費(fèi)用。
冷卻水循環(huán)系統(tǒng)工業(yè)應(yīng)用
對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部分的冷卻:
單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:
激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻:
等離子熔接、自動(dòng)包裝機(jī)、模具冷卻、洗凈機(jī)械、鍍金槽、精密研磨機(jī)、射出成型機(jī)、樹脂成型機(jī)的成型部分等。
分析檢測(cè)機(jī)器的發(fā)熱部分的冷卻:
電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計(jì)的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動(dòng)脈沖條幅器的發(fā)熱部分、原子吸光光度計(jì)的光源等。
數(shù)控機(jī)床、加工中心冷卻介質(zhì)的降溫。[1]