壓力控制器EPCD（Electronic Pressure Control Dual Valve）是一種雙閥電子壓力控制器，主要用于控制封閉或密閉容器內的壓力，確保壓力穩定并滿足特定的工藝需求。以下是對EPCD壓力控制器的詳細介紹：
一、工作原理
壓力控制器EPCD集成了兩個電磁閥：進氣閥和泄壓閥。
1.進氣閥：負責將過程氣體引入腔體，保持密閉空間的壓力。
2.泄壓閥：當壓力過高時，自動打開進行泄壓，快速精準地控制壓力的穩定，同時避免氣體浪費。
EPCD壓力控制器通過精確控制這兩個電磁閥的開閉，實現對容器內壓力的自動調節，確保壓力始終維持在設定的范圍內。
二、主要特點
1.高精度控制：壓力控制器EPCD配備高精度壓力傳感器和數字電路板，控制精度可達±0.5%F.S（滿量程精度），能夠滿足對壓力控制要求較高的應用場景。
2.快速響應：具有超快和平穩控制的特性，能夠快速響應上游壓力波動，確保壓力穩定。
3.穩定性好：控制穩定性≤±0.05%F.S，即使在長時間運行過程中，也能保持壓力的恒定。
4.易于集成：EPCD壓力控制器體積小巧，易于集成到各種自動化控制系統中，方便實現遠程監控和自動化控制。
5.安全可靠：標配多種防護等級（如IP40），能夠適應嚴苛的工作環境，確保設備的安全可靠運行。
三、應用領域
壓力控制器EPCD廣泛應用于需要精確控制壓力的領域，包括但不限于：
1.半導體生產：在半導體制造過程中，需要精確控制工藝氣體的壓力，以確保芯片的質量和性能。
2.科研實驗：在實驗室中，它可用于控制各種化學反應的壓力條件，滿足科研實驗的需求。
3.生物醫藥：在生物醫藥領域，它可用于控制生物反應器的壓力，確保細胞培養、發酵等過程的順利進行。
4.能源化工：在能源化工行業中，可用于控制管道、儲罐等設備的壓力，確保生產安全。
5.泄漏測試：在泄漏測試過程中，可用于控制測試腔體的壓力，準確檢測泄漏情況。
6.燃料電池：在燃料電池系統中，可用于控制氫氣和氧氣的供應壓力，確保燃料電池的正常運行。
7.真空鍍膜：在真空鍍膜過程中，可用于控制鍍膜腔體的壓力，確保鍍膜質量和均勻性。
四、選型與定制
由于不同應用場景對壓力控制器的要求不同，壓力控制器EPCD提供多種規格和型號供用戶選擇。同時，還支持根據客戶的具體需求進行定制，以滿足個性化的應用需求。
在選型時，用戶需要考慮以下因素：
1.壓力范圍：根據應用需求選擇合適的壓力控制范圍。
2.流量要求：根據工藝過程對氣體的流量需求選擇合適的電磁閥規格。
3.精度要求：根據應用對壓力控制精度的要求選擇合適的壓力傳感器和控制策略。
4.工作環境：根據應用環境選擇合適的防護等級和材質，以確保設備的可靠運行。
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