SemiChem 在線濃度監測儀
Entegris在設計和生產用于半導體制造工藝中的化學機械平坦化（CMP）漿料和配方清潔化學品的高精度分析儀器的有豐富的經驗。我們的技術旨在確保復雜混合化學品的精確一致性，并在 CMP和配方清潔工藝中實現高產量。
我們的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在線濃度監測儀）是集自動取樣、分析和報告關鍵過程的定量化學濃度的化學監測系統。全面的在線化學監測可實時校正漿料成分，從而穩定控制工藝生產條件。該系統可提供分類化學濃度數據。當立即顯現時，可以快速糾正可能對產品質量產生負面影響的變化，有助于滿足更高產品產量的要求。
應用領域
在全球范圍內，我們安裝了近3000套SemiChem APM系統，用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過氧化物的可靠的中心工具，并被證明在微電子環境中的所有濕化學應用中都具有較好的性能，包括：
·銅，鎢，阻擋層和金屬CMP
·制定清潔
·DSP+
·濕法蝕刻，氮化物蝕刻
·平底蝕刻，食人魚蝕刻
·高頻
·廢水
功能與特點
| 經驗證的標準電化學技術 | 提供行業精確的監控，以保證過程化學成分和完整性 |
| 提供化學濃度數據，使漿料/化學分配系統能夠提供準確的化學濃度 | |
| 在線的，接近實時檢測的系統 | 檢測揮發性化學物質的工藝偏差，防止產品質量損壞 |
| 將實驗室技術過渡到在線，實現快速準確的在線控制 | |
| 堅固耐用的工業設計 | 維持至少8500小時平均工作時間 |
| 可經受嚴峻的工業環境 |
規格
| 分析方法 | 電位測定法，標準加成法，光度測定法 |
| 電位測量的準確性* | 顯示值的±0.2% |
| 標準添加的準確性* | 顯示值的±2.0% |
| 電位測量精度* | ±0.2%相對誤差 |
| 標準添加精度* | ±2.0%相對誤差 |
| 測量時間 | >5分鐘/次（取決于應用程序） |
| 校準間隔 | 啟動時** |
| 樣品消耗 | <5 ml=""> |
| 進樣量 | 0.05-5 mL（取決于應用） |
| 進樣溫度 | 最高93°C（200°F） |
| 耗水量 | <1000 ml=""> |
| 樣品進樣/排樣 | <207 kpa=""> |
| 1/4" OD擴口接頭，1" FPT安全殼聯軸器 | |
| 去離子水 | 138至276 kPa（20至40 psi） |
| 2.0升/分鐘 | |
| 外徑 1/4" 擴口接頭 | |
| CDA | 414-552 kPa（60-80 psi） |
| 1/4" 外徑快速接頭 | |
| 排水 | 工藝：3/4“NPT重力排水管機柜：1/2“NPT重力 |
| 電源 | 110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A現場可切換 |
| 廢氣 | 外徑1 7/8" @ 17 CFM |
| 標準功能 | 可選功能 |
·四個4-20 mA模擬輸出 ·八個可編程繼電器 ·以太網和RS232串行 ·彩色觸摸屏 ·單個測量單元 ·綜合試劑儲存 ·單個采樣點 ·一個5 mL數字滴定管 ·多傳感器輸入 | ·多個采樣點 ·額外的5 mL數字滴定管 ·附加傳感器 ·安全聯鎖裝置 ·試劑微量檢測 |
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