在電子元器件的生產過程中，無論是清洗用水，還是溶液、漿料，都需要使用超純水。集成電路的生產工藝是蝕刻和清洗反復進行，清洗是半導體制程中重要的一環，目的是為了清洗原材料及半成品上可能存在的雜質。數據顯示，每生產一片集成塊需要消耗超純水3-5升，平均一個6英寸的晶片需消耗1.2噸的超純水。半導體設備中80%為晶圓加工制造設備，清洗設備在其中占比約為8%。作為超純水的主要需求方，微電子業的迅速發展將很大推動超純水行業的增長。(數據來源：國泰君安產業觀察)
與普通生活用水不同，超純水一般用于科學研究、工業制造等高品質用水領域。超純水指將水中的導電介質幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。超純水的電阻率大于18MΩ·cm，接近18.3MΩ·cm極限值。“超純”強調了水中各類型的污染物被去除至近乎于零的含量，和常用的術語“去離子水”不同，除了常規的表征電解質含量的指標(電導率或電阻率)外，根據應用的不同還包括有機物和無機化合物、溶解和顆粒物質、細菌及溶解氣體等指標。
采用“原水來水+疊片過濾器+超濾裝置+板式換熱器+極限分離系統+UV+微米過濾器+EDI裝置+TOC+氮封純水箱”工藝，膜系統通過震動技術增大膜表面的剪切力，防止污染物在膜表面沉積，從而實現較高的流速，可以處理較高固含量的物料，實現了進一步濃縮及更高的回收率。通過極限分離系統的低能耗優勢，大大降低了RO濃水回用系統的運行成本，達到了水資源回用的目的，而且減少了廢水排放。其技術優勢如下：
1、系統運行可靠性穩定，水質穩定品質更佳。
2、運行成本低，操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
3、占地面積小，自動化程度高。
4、無污水排放，無環境污染，使用安全及環境良好。
隨著國家對環保及微電子行業的重視，超純水的需求潛力逐漸展現出來，產業機會眾多。萊特萊德擁有多項超純水專用膜核心技術，專業量身定制水處理方案，可將水質達到18.2MΩ、溶解氧含量3～10ug/L，符合電子行業用水需求。
