在電子半導體行業中，鈣鎂離子和過堿量在線分析儀具有重要的應用：
對于鈣鎂離子的在線分析：
超純水制備：電子半導體生產中需要大量的超純水。鈣鎂離子含量過高會影響芯片制造過程中的清洗、蝕刻等環節，導致產品質量下降和良品率降低。在線分析儀能實時監測水中鈣鎂離子濃度，確保超純水品質符合嚴格的行業標準。
化學藥液控制：在晶圓制造的化學鍍、刻蝕等工藝中使用的化學藥液，鈣鎂離子的存在可能干擾反應過程，影響工藝穩定性和產品性能。通過在線分析，可及時調整藥液成分，保證工藝的精準性。
過堿量在線分析儀的應用：
蝕刻液控制：蝕刻過程中，過堿量的準確控制對于蝕刻速率和蝕刻效果至關重要。在線分析儀能夠實時提供過堿量數據，幫助優化蝕刻工藝參數，提高芯片的線路精度和質量。
清洗液監測：在晶圓清洗環節，合適的過堿量有助于去除雜質和污染物。通過在線監測過堿量，可以確保清洗效果，減少因清洗不導致的缺陷和次品。
