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有機/無機熱蒸發鍍膜技術指標
a、源蒸發室（1）真空室約Φ306×500 （2）離子泵（400L）（3）樣品架（三維調節+旋轉）（4）旋轉用電動機（5）插板閥CF-150（6）插板閥CF-100 （7）觀察窗CF-100（8）窗擋板 （9）盲板CF100 （10）束源冷阱底盤（11）有機分子束源（12）無機分子束源（13）加熱電源（14）束源擋板（15）總擋板 (16) 掩模更換(17) 對接波紋管（18）機臺架（19）膜厚測試儀（20）數顯超高真空計 (21)CF35 玻璃視窗 b、樣品予處理室（1）真空室約Φ260 ×250（2）分子泵600L/S（3）插板閥CF-150（4）磁力傳動器（5）金屬角閥CF-35（6）真空管路及旁抽管路波紋管（7）機械泵8L/S（8）數顯復合真空計（9）機臺架（10）觀察窗 (11)CF35 玻璃視窗。[1]
有機/無機熱蒸發鍍膜主要功能
教學中，該設備可用于物理學院全院研究生以及部分本科生的教學及演示實驗；在科研中，該超高真空多功能薄膜制備系統具備如下基本功能：氫、氧等離子體處理；樣品退火處理；功能有機薄膜生長；功能無機薄膜生長；原位發光光譜測量；樣品封裝等。[1]
參考資料
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